?? VTC-600-2HD雙靶磁控濺射儀 |沈陽科晶自動化設備有限公司

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產品資料
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VTC-600-2HD雙靶磁控濺射儀

]資料
如果您對該產品感興趣的話,可以
產品名稱: VTC-600-2HD雙靶磁控濺射儀
產品型號: VTC-600-2HD
產品展商: 科晶
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簡單介紹

VTC-600-2HD雙靶磁控濺射儀是我公司新自主研制開發的一款高真空鍍膜設備,可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜、半導體薄膜、陶瓷薄膜、介質薄膜、光學薄膜、氧化物薄膜、硬質薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。VTC-600-2HD雙靶磁控濺射儀配備有兩個靶槍,一個弱磁靶用于非導電材料的濺射鍍膜,一個強磁靶用于鐵磁性材料的濺射鍍膜。與同類設備相比,且具有體積小便于操作的優點,且可使用的材料范圍廣,是一款實驗室制備各類材料薄膜的理想設備。

VTC-600-2HD雙靶磁控濺射儀的詳細介紹

產品型號

VTC-600-2HD雙靶磁控濺射儀

產品型號

VTC-600-2HD

安裝條件

本設備要求在海拔1000m以下,溫度25℃±15℃,濕度55%Rh±10%Rh下使用。

1、水:設備配有自循環冷卻水機(加注純凈水或者去離子水)

2、電:AC220V 50Hz,必須有良好接地

3、氣:設備腔室內需注氬氣(純度99.99%以上),需自備氬氣氣瓶(自帶?6mm雙卡套

       接頭)及減壓閥

4、工作臺:尺寸1500mm×600mm×700mm,承重200kg以上

5、通風裝置:需要

主要特點

1配置兩個靶槍,一個配套射頻電源用于非導電靶材的濺射鍍膜,一個配套直流電源用于導電性材料的濺射鍍膜。

2可制備多種薄膜,應用廣泛。

3體積小,操作簡便。

技術參數

1、電源電壓:220V  50Hz

2、極限功率:<560W(不含真空泵)

3、極限真空度:< E-6mbar(配合本公司設備使用可達到 E-5mbar

4、工作溫度:RT-500℃,精度±1℃(可根據實際需要提升溫度)

5、靶槍數量:2個(可選配其他數量)

6、靶槍冷卻方式:水冷

7靶材尺寸:?2,厚度0.1-5mm(因靶材材質不同厚度有所不同)

8、直流濺射功率:500W(可選)

9、射頻濺射功率:300W/500W(可選)

10、載樣臺:?140mm

11、載樣臺轉速:1rpm-20rpm內可調

12、保護氣體:ArN2等惰性氣體

13、進氣氣路:質量流量計控制2路進氣,每個流量為100SCCM

產品規格

主機尺寸:500mm×560mm×660mm整機尺寸:1300mm×660mm×1200mm;重量:160kg

標準配件

1

直流電源控制系統

1

2

射頻電源控制系統

1

3

膜厚監測儀系統

1

4

分子泵(德國進口)

1

5

冷水機

1

6

冷卻水管(?6mm

4

可選配件

金、銦、銀、白金等各種靶材

VTC-600-2HD雙靶磁控濺射儀操作參考視頻

   

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