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1200℃雙管滑動式四通道混氣CVD系統 OTF-1200X-4-C4LV

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產品名稱: 1200℃雙管滑動式四通道混氣CVD系統 OTF-1200X-4-C4LV
產品型號: OTF-1200X-4-C4LV
產品展商: 科晶
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簡單介紹

1200℃雙管滑動式四通道混氣CVD系統OTF-1200X-4-C4LV是專門為在金屬箔表面生長薄膜而設計的,特別是應用在新一代能源——柔性金屬箔電極方面的研究。

1200℃雙管滑動式四通道混氣CVD系統 OTF-1200X-4-C4LV的詳細介紹

 

 1200℃雙管滑動式四通道混氣CVD系統OTF-1200X-4-C4LV操作視頻

產品型號

1200℃雙管滑動式四通道混氣CVD系統OTF-1200X-4-C4LV

主要特點

1采用高純氧化鋁保溫材料,保證了極好的溫度均勻性。

2內爐膛表面涂有美國進口氧化鋁涂層,可以提高反射率和保護爐膛潔凈度

3PID控制器 ,可以設置30段升降溫程序。

4金屬箔纏繞在內管的外表面上發CVD反應

5采用雙管真空密封法蘭,允許反應氣體通過兩管之間(10mm間隙)。

6卻氣體直接通入內管。

7有帶KF25快接和波紋管的高速機械泵。

8爐底部裝有滑軌,爐體可從一端滑向另一端,從而實現快速升溫和降溫。為了獲得較快的加熱速度,可以       先將爐體預熱,然后滑至放置樣品處;為了獲得較快的冷卻速度,可將爐體滑至另一端,同時將冷氣通入      樣品所在處

9密封法蘭系統采用不銹鋼制作。

10已通CE認證。

技術參數

管式爐

1電源:單相AC 208-240V   50/60Hz  2.5KW 20A保險絲)

2、石英管:外管外徑Φ100mm內徑Φ96mm,長1400mm

內管外徑Φ80mm內徑Φ75mm,長1400mm

3、加熱元件:摻鉬鐵鉻鋁合金電阻絲(表面涂有氧化鋯)

4、加熱區域:440mm

5、恒溫區域:120mm(±1℃在400-1100℃)

6工作溫度:*高1100連續工作1000

7、*大升降溫速率:20/min

8、控溫精度:±1

9、真空度:10-3torr(機械泵),10-5torr(分子泵)

質量流量混氣系統

1、質子流量計:4路精密質子流量計,數字顯示,氣體流量自動控制

MFC1范圍0-100sccmMFC2范圍0-200sccmMFC3范圍0-200sccmMFC1范圍0-500sccm

2、流量精度:0.2%

3、氣路:4路(每個氣路都有一個獨立的不銹鋼針閥控制)

4進出氣口:1/4卡套

5、混氣罐:1

產品規格

尺寸:管式爐550mm×380mm×520mm,移動架600mm×600mm×597mm

重量:135kg

可選配件

1、分子泵

2、雙溫區管式爐

3、銅箔(生長石墨烯150mm×150mm×25μm


     

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